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HS-200化學厚錫
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代號及名稱 特性及用途 溶液組成成分及操作條件
ECM-110化學厚銅 1.110 化學銅是特別發展來應用于 MID (Moulded Interconnection Devices)的一支化學銅藥水,沉積厚度可達 25 微米,適合用在厚銅沉積時使用。鍍層細致、均勻呈亮粉紅色,鍍層應力低且沉積速率快,每小時可沉積 5 微米。
2.鍍層應力低,與底材具良好結合力。
3.槽液穩定性高,減少槽液保養之人力消耗。
4.沉積速率快且穩定,沉積厚度容易掌控。
ECM-110G:120ml/L
ECM-110A:16.7ml/L
ECM-180B:25ml/L
ECM-110S:2ml/L
ECM-110H:14ml/L
溫度:50-60℃
Copper ECS化學銅 1.Copper ECS 是一款易操作,快速化學鍍銅的工藝,沉銅層完美、平整、密集且厚度均勻。按以下的操作條件控制,Copper ECS 可以在 60 分鐘 內沉積 3-5 微米(120-200 微英寸)。
2.Copper ECS 是多元化的。客戶電鍍工藝需求的多樣化,可以通過選用不同的成分、穩定劑濃度的不同來完成。
Copper ECS 槽液穩定,正確維護槽液可以延長使用
沖擊銅:
ECS BS:120ml/L
ECS A:16.7ml/L
ECS CS:25ml/L
ECS G:0.5ml/L
ECS S:0.5ml/L
ECM-110H:10ml/L
溫度:56-60℃
厚銅:
ECS B:120ml/L
ECS A:16.7ml/L
ECS C:10ml/L
ECS G:0.5ml/L
ECS S:0.5ml/L
ECM-110H:10ml/L
48-52℃
HS-200化學厚錫 HS-200化學厚錫用于銅、銅合金件化學鍍沉錫工藝。不需要通電,無毒無污染,處理后的表面銀白光亮、焊接優良,可用于精密件,選擇性電鍍工件化沉錫,因不需要強烈翻滾,可以保證精密電子件變形不良產生。鍍層厚度可達到5微米以上 HS-200A:300ml/L
HS-200B:700ml/L
溫度:75-90℃
沉積速率:4-8um/hr
HN-220堿性化學鎳 1.操作溫度范圍寬 30~40oC
2.無鉛無鎘。符合 ELV,WEEE 和 ROHS 指令
3.減少污染后續酸性化學鍍或其他鍍液
4.優秀的結合力
5.對復雜工件處理能力更顯優越性
6.可用于非導體表面電鍍打底層
7.低溫操作、非常好的鍍液穩定性
HN-220A:50ml/L
HN-220B:50ml/L
HN-220C:75ml/L
溫度:35-45℃
PH:8.0-9.0
負載:0.5-1.5dm2/L
HN-420中磷化學鎳 HN-420是高速、無鎘無鉛的化學鎳工藝,磷含量為6-8%,為保持最佳溶液性能而設計。該工藝可提供優異的溫度穩定性及雜質容許量,溶液性能穩定。 HN-420工藝可化學電鍍出均勻的鎳磷合金,適用于一系列底材上,包括鋁合金、不銹鋼、碳鋼、合金鋼、銅合金,某些非導電基體及其他 HN-420A:60ml/L
HN-420B:150ml/L
溫度:70-90℃
PH:4.7-5.2
負載:0.5-1.5dm2/L
EN-43高磷化學鎳 EN-43是一種環保的高磷化學鍍鎳產品,鍍速高,深鍍和均鍍能力強,并且其光澤度在浴液前期和后期可保持一致,光澤度強,鍍液管控范圍寬,使用方便。不含Pb,Cd,Hg,六價Cr等重金屬,符合ROHS規定。鍍速高,且平穩,操作方便。可以得到全光亮的鍍層,并且液壽命期間保持一致。鍍層磷含量穩定,耐腐蝕性好鍍液穩定性好,對不純物(Fe,Zn,Cr….)的影響小。 EN-43A:60ml/L
EN-43B:180ml/L
溫度:82-90℃
PH:4.7-5.2
負載:0.5-1.5dm2/L
EN-821化學黑鎳 1.EN-821 是一款槍黑色的化學鍍鎳磷合金鍍層,可以替代電鍍槍色,能夠滿足復雜零件的化學鍍黑鎳工藝。操作跟普通化學鎳相似,容易控制,制程穩定可靠。
2. 如果產品有厚度要求需要用中磷化學鎳鍍到所需厚度,然后再進行鍍黑色化學鎳,預鍍化學鎳越亮,后面的黑鎳就越黑。
3. 如果產品有 焊錫要求,鍍完黑色化學鎳后按一般水洗要求即可。
4. 烘烤溫度 70-90 度,不能超過 100 度。溫度過高有可能影響黑度。
EN-821A:100ml/L
EN-821B:200ml/L
溫度:80-90℃
PH:9.4-9.8
負載:0.3-1.5dm2/L
SK-307化學鍍銀 SK-307化學鍍銀是一種可在銅的表面沉積出高性能的沉銀層,一次良率高,焊接力良好,具有長期的可靠性,能沉出最大 1-4 微米厚的無孔沉銀層。 SK-308K:20ml/L
SK-308:100ml/L
SK-307:25ml/L
AR硝酸:10ml/L
溫度:48-54℃
ESG-81化學鍍金 ESG-81置換型化學薄金具有良好的金覆蓋性,可有效地保護鎳層。因此面對SMT表面黏裝時,搭配ESG-81藥水的化學鎳層具有非常優異之焊錫潤濕性。為使ESG-81的特性得到更好的發揮,底材藥液的選擇建議搭配使用同公司化學鎳鍍液。 Au濃度:0.8-1.2g/L
ESG-81:100ml/L
溫度:80-90℃
PH:4.9-5.5
AU-3化學厚金 AU-3 化學鍍厚金工藝為自催化化學反應。鍍液穩定,雜質容忍度大。連續補充生產不會出現漏鍍.有良好的抗氧化性,耐磨性,焊接性能良好(打金線良好)。在低濃度金含量,也可以沈積厚金,厚度可以達到 1.5 微米以上,色澤均勻,不易偏紅色。 Au濃度:1-5g/L
AU-3:500ml/L
溫度:88-98℃
PH:6.5-7.0
AU-4化學厚金 AU-4有著極好的延展性和可塑性,優良的光澤性、防護性、導電性、耐磨性、可焊性和極高的抗氧化低電阻性能。化學鍍金是取代傳統鍍金的絕佳工藝。廣泛應用于五金電子,PCB、FPCB、陶瓷電路板、石墨電路、電感、探針、粉末冶金件、手機天線以及精密電子元器中金屬和非金屬結構件等化學鍍金。用途十分廣泛,深受廣大客戶好評。 Au濃度:1-5g/L
AU-4:500ml/L
硫酸鈷:0.5-1g/L(硬金厚金使用,純金不用)
溫度:92-98℃
PH:7.5-8.5
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